大孔強酸性陽離子交換樹脂的交叉污染與再生操作

【產(chǎn)品介紹】D001

產(chǎn)品技術標準::GB/T13659-2008 DL519-93 SH2605.07-1997

本產(chǎn)品的性能與001×7強酸性陽離子交換樹脂相似，但有更好的物理及化學穩(wěn)定性（耐滲透壓力，耐磨損等）及更好的

抗氧化性能，由于具有大孔結構，本產(chǎn)品能用于吸附分子量尺寸較大的雜質(zhì)以及在非水介質(zhì)中使用。          

本產(chǎn)品相當于美國Amberlite IRA-200,德國Lewatit-sp120，日本Diaion PK，英國Zerolite S-1104，法國

Allassion AS，前蘇聯(lián)Ky-2-12P，相當于我國老牌號：D031;61號;72號;D1099;744。

【使用時參考指標】

1.PH范圍:0-14

2.允許溫度（℃）:鈉型≤120氫型≤100

3.膨脹率：％（Na+→OH+)≤10

4.工業(yè)用樹脂層高度：m 1.0-3.0

5.再生液濃度：％HCL:2-5 H2SO4:1-2;2-4

6.再生劑用量（按100計）:kg/m3濕樹脂HCL(工業(yè)）40-100H2SO4(工業(yè)）75-150

7.再生液流速：m/h 5-8

8.再生接觸時間：minute:30-60

9.正洗流速：m/h:10-20

10.正洗時間：minute:約30

11.運行流速：m/h,15-25高流速：80-100

12.工作交換容量：mmol/l(濕樹脂)≥1300

 【產(chǎn)品技術標準】

指標名稱

D001 H/Na

D001 FC H/Na

D001 SC H/Na

D001MB H/Na D001 TR

全交換容量mmol/g≥

4.80/4.35

體積交換容量mmol/ml≥

1.60/1.70

含水量

50-60/45-55

濕視密度g/ml

0.74-0.80/0.75-0.85

濕真密度g/ml

1.16-1.24/1.25-1.28

粒度

(0.315-1.25mm)≥95

(

有效粒徑mm

0.40-0.70

均一系數(shù)≤

1.60

磨后圓球率 ≥

95

外觀

淺棕色或灰褐色不透明球狀顆粒

出廠型式

Na

【用途】

 本產(chǎn)品主要用于高純水的制備（尤其適用于高速混床）及用于凝結水凈化裝置（H-OH或MH4-OH混床系統(tǒng)），還能

用于廢水處理，回收重金屬；氨基酸回收；也可作催化劑。

大孔強酸性陽離子交換樹脂的交叉污染與再生操作

　　混床的交叉污染與再生操作

　　“交叉污染"是指在混床再生時，處于分界面附近的樹脂，由于同時接觸再生劑HCl或NaOH，而使其在正洗或運行時出水水質(zhì)不合格的現(xiàn)象。“交叉污染"與下列因素有關：

　　1、反洗操作不當，使陽、陰樹脂分層不好。

　　2、樹脂“抱團"。

混床樹脂

　　3、樹脂中有懸浮物造成的“結塊"。

　　4、樹脂因破碎而造成的分界面混雜不清。

　　5、因裝入的陽、陰樹脂高度不合適，使反洗后的陽、陰樹脂分界面不是位于中間排水管的中分線。

混床樹脂

　　生產(chǎn)工藝中常用酸、堿分別通過陽、陰樹脂的兩步法，下面著重介紹“兩步法"

　　1、反洗分層反洗流速10～15m/h，反洗時間一般為15～20min。待反洗水清晰后，關閉反洗入口門、排水門，待樹脂落實后，從監(jiān)視鏡檢查樹脂分層情況，分層好的樹脂在中間排水管附近有明顯的顏色區(qū)別。如分層不明顯可重新反洗分層。

　　2、再生混床的再生有陽樹脂再生、陰樹脂再生、對流沖洗和小正洗四步：

　　(1)陽樹脂再生。開啟酸抽子入口水門，調(diào)整進水流速5m/h。開啟堿抽子入口水門，維持“頂壓水"流速5m/h，用中間排水門調(diào)整樹脂層上部水層200-300mm。開啟進酸閥，調(diào)整再生酸濃度2～3，注酸再生。在注酸過程中，要經(jīng)常檢查“頂壓水"的流動情況。以免“頂壓水"中斷，使再生酸液上流，污染陰樹脂。

混床樹脂

　　(2)陰樹脂再生。待酸打完后，關閉酸濃度調(diào)整門。此時酸抽子不停，繼續(xù)用除鹽水沖洗陽樹脂。這樣做有兩個目的：一是用除鹽水清洗陽樹脂層中的再生產(chǎn)物和廢再生液；二是作為托堿水，用以防止再生堿液下流，污染陰樹脂。開啟進堿閥，調(diào)整堿再生濃度1.0～1.5，注堿再生?；齑驳脑偕鷦┝颗c混床出水水質(zhì)有關?；齑惨蟪鏊|(zhì)好，其再生劑用量則較高；如出水水質(zhì)稍差，其再生劑用量則低。一般陽樹脂采用理論劑量的2倍，陰樹脂采用理論劑量的3倍。當采用體外再生時，其比耗可以低于上述數(shù)值。